洁净室的湿度关键是依据加工工艺标准来确定的,但在考虑加工工艺规定的标准下,应充分考虑人员的舒适感。随之空气洁净度要求的提升,出現了加工工艺对温度湿度的规定也愈来愈严。总体标准看,因为生产加工精密度愈来愈细致,因此对溫度起伏范畴的规定愈来愈小。比如在大规模集成电路生产的光刻曝光加工工艺中,做为掩膜板原材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差规定愈来愈小。直徑100 um的硅片,溫度升高1度,就造成了0.24um线形澎涨,因此务必有±0.1度的控温,另外环境湿度值通常较低,由于人流汗之后,对产品将有污染,尤其是怕钠的半导体材料生产车间,这类车间不宜超出25度。